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中芯國(guó)際與Crossbar結(jié)晶 40nm ReRAM芯片出樣

據(jù)介紹,與NAND芯片相比,中芯國(guó)際試產(chǎn)的ReRAM芯片具備諸多優(yōu)勢(shì)。另外,按計(jì)劃更先進(jìn)的28nm工藝ReRAM芯片也將在2017年上半年問(wèn)世。
  近日,中芯國(guó)際與Crossbar結(jié)晶即40nm ReRAM存儲(chǔ)芯片出樣,與NAND芯片相比,具備諸多優(yōu)勢(shì)。另外,按計(jì)劃更先進(jìn)的28nm工藝ReRAM芯片也將在2017年上半年問(wèn)世。

  目前在下一代存儲(chǔ)芯片的研發(fā)當(dāng)中,除了3D XPoint芯片外還有ReRAM芯片(非易失性阻變式存儲(chǔ)器)。中芯國(guó)際將采用自家的40nm CMOS試產(chǎn)ReRAM芯片。

  據(jù)介紹,這種芯片比NAND芯片性能更強(qiáng),密度比DRAM內(nèi)存高40倍,讀取速度快100倍,寫(xiě)入速度快1000倍,耐久度高1000倍,單芯片(200mm2左右)即可實(shí)現(xiàn)TB級(jí)存儲(chǔ),還具備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于制造等優(yōu)點(diǎn)。

中芯國(guó)際與Crossbar結(jié)晶 40nm ReRAM芯片出樣

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